本文件規(guī)定了用層狀材料截面像所記錄的兩種不同材料之間平均界面位置的測(cè)定方法。 本文件適用于透射電子顯微鏡（TEM）或掃描透射電子顯微鏡（STEM）所記錄的層狀材料截面像和X射線能譜儀（EDS）或者電子能量損失譜儀（EELS）所記錄的截面元素面分布圖。也適用于由數(shù)碼相機(jī)、電腦存儲(chǔ)器和成像板圖像傳感器所采集的數(shù)字像以及膠片記錄的模擬像經(jīng)掃描儀轉(zhuǎn)換的數(shù)字像。 本文件不適用于測(cè)定多層模擬法（MSS）獲得的界面位置。 標(biāo)準(zhǔn)號(hào)：GB/T 43087-2023 標(biāo)準(zhǔn)名稱：微束分析分析電子顯微術(shù)層狀材料截面像中界面位置的確定方法 英文名稱：Microbeam analysis—Analytical electron microscopy—Method for the determination of interface position in the cross-sectional image of the layered materials 發(fā)布日期：2023-09-07 實(shí)施日期：2024-04-01 采用標(biāo)準(zhǔn)：ISO 20263:2017《微束分析分析電子顯微術(shù)層狀材料截面像中界面位置的確定方法》 MOD 修改采用 起草人：權(quán)茂華、柳得櫓 起草單位：北京科技大學(xué) 歸口單位：全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC 38)