本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了磁控濺射用釕靶的要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存、質(zhì)量證明書(shū)和訂貨單（或合同）內(nèi)容。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于微電子領(lǐng)域鍍膜用磁控濺射釘靶（以下簡(jiǎn)稱釕靶）。GB/T 34649-2017 磁控濺射用釕靶 Magnetron sputtering ruthenium target 2017-09-29發(fā) 布 2018-04-01實(shí) 施 　 　 　 　 　 中 華 人 民 共 和 國(guó) 國(guó) 家 質(zhì) 量 監(jiān) 督 檢 驗(yàn) 檢 疫 總 局 噬 ＋ 肴 ： 擴(kuò)？ ’‘＼中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)認(rèn)！ J 囔 醴 鬻 GB/T 34649-2017 刖 舀 本標(biāo)準(zhǔn)按照GB/T 1.1-2009給出的規(guī)則起草 。 本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)提出 。 本 標(biāo) 準(zhǔn) 由 全 國(guó) 有 色 金 屬 標(biāo) 準(zhǔn) 化 技 術(shù) 委 員 會(huì) （ SAC/TC 243） 歸 口 。 本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位：有研億金新材料有限公司 、 有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院 。 本 標(biāo) 準(zhǔn) 起 草 人 ： 羅 俊 鋒 、 丁 照 崇 、 李 勇 軍 、 向 磊 、 萬(wàn) 小 勇 、 劉 書(shū) 芹 、 熊 曉 東 、 王 莊 、 賀 聽(tīng) 、 滕 海 濤 、 高 巖 。