DA∕T 45-2021 檔案館高壓細(xì)水霧滅火系統(tǒng)技術(shù)規(guī)范 本文件規(guī)定了高壓細(xì)水霧滅火系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、施工、驗(yàn)收及維護(hù)管理的技術(shù)要求。 本文件適用于檔案館中設(shè)置的高壓細(xì)水霧滅火系統(tǒng)。 本文件代替DA/T 45—2009《檔案館高壓細(xì)水霧滅火系統(tǒng)技術(shù)規(guī)范》與DA/T 45—2009相比除 結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性改動(dòng)外主要技術(shù)變化如下: ———更改了高壓細(xì)水霧滅火系統(tǒng)的適用范圍與現(xiàn)行國家標(biāo)準(zhǔn)和檔案行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)要求保持一致(見 4.1.12009版的4.1.2); ———?jiǎng)h除了高壓細(xì)水霧滅火系統(tǒng)不宜保護(hù)的檔案庫房類型(見2009版的4.1.3); ———更改了各應(yīng)用場所系統(tǒng)噴霧強(qiáng)度與噴頭選型的設(shè)計(jì)參數(shù)(見4.3.5、4.3.7、4.4.32009版的 4.3.7、4.3.8、4.4.3); ———更改了高壓細(xì)水霧霧滴直徑的要求(見3.1.32009版的3.1.1); ———增加了高壓細(xì)水霧滅火系統(tǒng)實(shí)體火災(zāi)模擬試驗(yàn)基本要求(見附錄A); ———增加了用于保護(hù)珍貴檔案的庫房和電子信息機(jī)房的噴頭技術(shù)要求(見4.4.7); ———增加了高壓細(xì)水霧滅火系統(tǒng)驗(yàn)收時(shí)模擬噴霧要求(見7.5.9)。 請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識別專利的責(zé)任。 本文件由國家檔案局提出并歸口。 本文件起草單位:上海市檔案局、上海市浦東新區(qū)檔案局、上海同泰火安科技有限公司。 本文件主要起草人:肖林、張建明、費(fèi)美榮、叢北華、方桂芳、李旻、張黎、施惠剛、錢唐根、張喆。 本文件歷次版本發(fā)布情況為: ———2009年首次發(fā)布為DA/T 45—2009; ———本次為第二次修訂。