微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用 第三版 作者：崔錚 著 出版時(shí)間： 2013年版 內(nèi)容簡(jiǎn)介 u3000u3000《微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用（第3版）》集作者多年來(lái)的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)與研究成果，并結(jié)合近年來(lái)國(guó)際上的最新發(fā)展，綜合介紹微納米加工技術(shù)的基礎(chǔ)，包括光學(xué)曝光技術(shù)、電子束曝光技術(shù)、聚焦離子束加工技術(shù)、掃描探針加工技術(shù)、微納米尺度的復(fù)制技術(shù)、各種沉積法與刻蝕法圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)、間接納米加工技術(shù)與自組裝納米加工技術(shù)。對(duì)各種加工技術(shù)的介紹著重講清原理，列舉基本的工藝步驟，說(shuō)明各種工藝條件的由來(lái)，并注意給出典型工藝參數(shù)；充分分析各種技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)及在應(yīng)用過(guò)程中的注意事項(xiàng)；以大量圖表與實(shí)例說(shuō)明各種加工方法，避免煩瑣的數(shù)學(xué)分析；并以專門一章介紹微納米加工技術(shù)在現(xiàn)代高新技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用，包括超大規(guī)模集成電路技術(shù)、納米電子技術(shù)、光電子技術(shù)、高密度磁存儲(chǔ)技術(shù)、微機(jī)電系統(tǒng)技術(shù)、生物芯片技術(shù)和納米技術(shù)。通過(guò)應(yīng)用實(shí)例說(shuō)明現(xiàn)代高新技術(shù)與微納米加工技術(shù)的不可分割的關(guān)系，并演示如何靈活應(yīng)用微納米加工技術(shù)來(lái)推動(dòng)這些領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步。與國(guó)內(nèi)外同類出版物的相比，《微納米加工技術(shù)及其應(yīng)用（第3版）》的顯著特點(diǎn)是將用于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)、用于微機(jī)電系統(tǒng)制造與用于納米技術(shù)研究的微納米加工技術(shù)綜合介紹，并加以比較。首次將微納米加工歸納為平面工藝、探針工藝和模型工藝三種主要類型，突出了微納米加工與傳統(tǒng)加工技術(shù)的不同之處。全書既注重基礎(chǔ)知識(shí)又兼顧微納米加工領(lǐng)域近年來(lái)的最新進(jìn)展，并列舉大量參考文獻(xiàn)與互聯(lián)網(wǎng)鏈接網(wǎng)址，供進(jìn)一步發(fā)掘詳細(xì)信息與深入研究。因此不論是對(duì)初次涉足這一領(lǐng)域的大專院校的本科生或研究生，還是對(duì)已經(jīng)有一定工作經(jīng)驗(yàn)的專業(yè)科技人員，都具有很好的參考價(jià)值。 目錄 第1章 緒論 1.1 微納米技術(shù)與微納米加工技術(shù) 1.2 微納米加工的基本過(guò)程與分類 1.3 本書的內(nèi)容與結(jié)構(gòu) 參考文獻(xiàn) 第2章 光學(xué)曝光技術(shù) 2.1 引言 2.2 光學(xué)曝光方式與原理 2.2.1 掩模對(duì)準(zhǔn)式曝光 2.2.2 投影式曝光 2.3 光學(xué)曝光的工藝過(guò)程 2.4 光刻膠的特性 2.4.1 光刻膠的一般特性 2.4.2 正型光刻膠與負(fù)型光刻膠的比較 2.4.3 化學(xué)放大膠 2.4.4 特殊光刻膠 2.5 光學(xué)掩模的設(shè)計(jì)與制作 2.6 短波長(zhǎng)曝光技術(shù) 2.6.1 深紫外曝光技術(shù) 2.6.2 極紫外曝光技術(shù) 2.6.3 X射線曝光技術(shù) 2.7 大數(shù)值孔徑與浸沒(méi)式曝光技術(shù) 2.8 光學(xué)曝光分辨率增強(qiáng)技術(shù) 2.8.1 離軸照明技術(shù) 2.8.2 空間濾波技術(shù) 2.8.3 移相掩模技術(shù) 2.8.4 光學(xué)鄰近效應(yīng)校正技術(shù) 2.8.5 面向制造的掩模設(shè)計(jì)技術(shù) 2.8.6 光刻膠及其工藝技術(shù) 2.8.7 二重曝光與加工技術(shù) 2.9 光學(xué)曝光的計(jì)算機(jī)模擬技術(shù) 2.9.1 部分相干光成像理論 2.9.2 計(jì)算機(jī)模擬軟件COMPARE 2.9.3 光學(xué)曝光質(zhì)量的比較 2.10 其他光學(xué)曝光技術(shù) 2.10.1 近場(chǎng)光學(xué)曝光技術(shù) 2.10.2 干涉光學(xué)曝光技術(shù) 2.10.3 無(wú)掩模光學(xué)曝光技術(shù) 2.10.4 激光三維微成型技術(shù) 2.10.5 灰度曝光技術(shù) 2.11 厚膠曝光技術(shù) 2.11.1 傳統(tǒng)光刻膠 2.11.2 SU-8光刻膠 2.12 LIGA技術(shù) 2.12.1 用于LIGA的X射線光源 2.12.2 X射線LIGA掩模 2.12.3 用于X射線LIGA的厚膠及其工藝 2.12.4 影響X射線LIGA圖形精度的因素 參考文獻(xiàn) 第3章 電子束曝光技術(shù) 3.1 引言 3.2 電子光學(xué)原理 3.2.1 電子透鏡 3.2.2 電子槍 3.2.3 電子光學(xué)像差 3.3 電子束曝光系統(tǒng) 3.4 電子束曝光圖形的設(shè)計(jì)與數(shù)據(jù)格式 3.4.1 設(shè)計(jì)中的注意事項(xiàng) 3.4.2 中間數(shù)據(jù)格式 3.4.3 Auto CAD數(shù)據(jù)格式 …… 第4章 聚焦離子束加工技術(shù) 第5章 掃描探針加工技術(shù) 第6章 復(fù)制技術(shù) 第7章 沉積法圖形轉(zhuǎn)移技術(shù) 第8章 刻蝕法圖形轉(zhuǎn)移技術(shù) 第9章 間接納米加工技術(shù) 第10章 自組裝納米加工技術(shù) 第11章 微納米加工技術(shù)的應(yīng)用